厦门映日光电科技有限公司
企业简介
  厦门映日有限公司于2007年在厦门注册,坐落于火炬(翔安)产业区,占地6千余平方米,首期投资200万美元。公司从事溅镀靶材及液晶材料的研发与生产,包括:各种溅镀靶材(sputtering target)、液晶配向膜材料(Alignment Coatings For LC)等高新技术产品。 公司核心技术骨干全部从日本知名企业引进,同时也汇集了一批的研究人员。目前有员工40余人,本科学历占50%,硕士学历占15%,博士学历占5%。公司注重以人为本的管理理念,注重人才的培养与选拔。对于技术骨干,定期到日本进行培养/培训。公司也经常邀请国内高校、研究院、业内专家对员工进行技术讲座,提升公司研发实力。 公司拥有的仪器设备。如核磁共振仪(Bruck 500MHz)、GC-MS(Agilent 6890/5973),HPLC(Shimadzu LC-10ATvp),FTIR(Nicolet 380)等等。同时公司还拥有多功能中试车间、小批量生产工厂、万级超净室,形成“研发-小试-中试-生产”的完备体系。 公司为员工创建了优良的研究环境,形成了有特色的企业文化,通过不断完善和优化管理方式及激励机制,激发员工的积极性和创新热情。公司将发展成为一个具有世界水平的液晶材料研发生产基地,以不懈的努力,创造丰厚的价值,为中国光电发展作贡献!
厦门映日光电科技有限公司的商标信息
序号 注册号 商标 商标名 申请时间 商品服务列表 内容
1 8999879 映日 2010-12-28 白色(染料或涂料);银白乳剂(颜料);饮料色素;复印机用调色剂(墨);油漆;松香;防腐剂;刷墙用白浆 查看详情
厦门映日光电科技有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 CN202576541U 等离子体射流保护罩 2012.12.05 本实用新型公开一种等离子体射流保护罩,包括射流芯体、外环和内环,其中的射流芯体一端面设有两组进气孔并
2 CN102618815A 等离子体射流保护罩 2012.08.01 本发明公开一种等离子体射流保护罩,包括射流芯体、外环和内环,其中的射流芯体一端面设有两组进气孔并与内
3 CN202246827U 一种喷涂旋转靶材的冷却装置 2012.05.30 本实用新型公开一种喷涂旋转靶材的冷却装置,包括冷却芯轴、进水管、出水管,冷却芯轴中心的两端设有互不连
4 CN202240825U 一种旋转靶材的打磨装置 2012.05.30 本实用新型公开一种旋转靶材的打磨装置,包括支架、电机、砂带,支架的一端安装电机,电机的驱动轴上装有主
5 CN202246826U 一种喷涂旋转靶材用的喷咀 2012.05.30 本实用新型公开一种喷涂旋转靶材用的喷咀,主要由前部圆柱体、中部圆锥体、后部圆柱体连接构成,中间设有由
6 CN202257164U 一种喷涂旋转靶材的监控装置 2012.05.30 本实用新型公开一种喷涂旋转靶材的监控装置,包括控制器、控制设备电源的接触器,控制设备电源的接触器与控
7 CN202148348U 一种旋转型靶材 2012.02.22 本实用新型公开一种旋转型靶材,包括管状的金属基材、镀膜材料层,管状的金属基材两端设有肩台,管状的金属
8 CN202123744U 一种平面硅靶材 2012.01.25 本实用新型公开一种平面硅靶材,包括平板型硅材,其特征在于:平板型硅材的背面依次镀有铬材料层、镍铬材料
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